程和复杂度。
所以如果euv光刻技术能够成熟，并且投入量产，芯片的生产时间，将会大幅缩短，产品良率也会提高很多。
按照现在的预计，使用euv技术的工厂，最快可以做到20多天出厂，时间只有传统光刻技术的四分之一。
但是目前evu技术并没有成熟，仍然有多个关键问题没有解决。
tel、三星、台积电半导体三巨头，投了巨额资金，给全球顶级的光刻机厂家asl，用来开发euv技术，以期维持半导体行业的持续发展。
euv技术是延续摩尔定律，让7n、5n工艺，成功量产的希望。
而且，euv技术，也是东华国内半导体制作技术，实现弯道超车的机会，超越国际的难得机会。
在传统工艺上，东华已经难以超过西方了，即便是超过，也马上就要过时，只能用来生产低级芯片。
东华在上个世纪九十年代，就开始进行euv相关方面的研究。
2002年，研制出国内第一套euv极紫外光刻原理装置。
2008年，在中科院的主导下，已经多家高校和科研机构参与到研究中，
2017年，euv极紫外光刻关键技术研究，已经到了最后攻关阶段，即将进行项目验收。
实际上，这个时候，单纯的在euv的光刻机技术上，是东华和国际最近的一次，已经几乎在同一代以内了。
而且关键是，但凡国内搞技术攻关，必然是要做一整套的技术。
包括生产过程中用的各种材料与设备，都会进行整体的技术攻关，因
第319章 CPU行业的瓶颈(2/4)